EHT Semi Halbleiterfertigung | Plasmaerzeugung, Wafer-Bias, Chucking, IED, ALE, HAR, Multistate

EHT Semi Halbleiterfertigung Tutorials

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EHT-Halbleiterfertigungsprodukte

Die EHT-Halbplasmaprodukte erreichen die höchste Ätzqualität bei der Halbleiterfertigung mit präziser Steuerung der Ionenenergieverteilung (IED) bei niedrigsten kritischen Mindestabmessungen und dennoch mit Ätzraten, die mit denen von HF-Generatoren vergleichbar sind.

Unser Produktspektrum für die Halbleiterfertigung ist in der folgenden Tabelle zusammengefasst. Klicken Sie auf einen beliebigen Link, um weitere Informationen zu erhalten:

Modell Anwendungen Uni- oder Bipolar höchstwerte: MHz
kV kW A
Spartan Wafer-Bias, Chucking Unipolar 14 20 175 600
Hoplight Wafer-Bias, Chucking Unipolar 18 5 130 600
Perseus Wafer-Bias Bipolar 16 20 110 600
Mid-Freq. RF Wafer-Bias, Plasma-Generierung Bipolar 25 100 3 кА 1
High-Freq. RF Wafer-Bias, Plasma-Generierung Bipolar 10 20 кА 15